Zastosowanie metody Fentona do remediacji odcieków składowiskowych
Mikołaj Sikorski
Joanna Muszyńska
Jarosław Gawdzik
  

Przedstawiono metodę pogłębionego utleniania, Advanced Oxidation Process (AOP), polegającą na wytworzeniu wysoko reaktywnego rodnika hydroksylowego (OH). Rodnik ten ma najwyższy ze znanych utleniaczy potencjał utleniający, równy 2,75 V i działa efektywnie na większość związków organicznych. Omówiono jeden ze sposobów wytwarzania tego rodnika, a mianowicie poprzez reakcję Fentona, w której substratem jest mieszanina żelaza (II) i nadtlenku wodoru, a produktami żelazo (III), wytrącające się w formie koloidu wodorotlenku żelazowego (III), i rodnik hydroksylowy. W pracy nie tylko wykazano, że reakcja utleniania odczynnikiem Fentona jest skuteczną metodą podczyszczania odcieków ze składowisk odpadów, ale również dobrano proporcje mieszaniny utleniającej zapewniające jej wysoką aktywność.

 

Redakcja GAZ WODA I TECHNIKA SANITARNA
Siedziba redakcji: ul. Czackiego 3/5, pok.404, 00-043 Warszawa
tel./fax 0 22 827 02 49 tel. 22 336 14 07, www.gazwoda.pl
e-mail: gwits@poczta.onet.pl, gazwoda@sigma-not.pl

Wydawnictwo SIGMA-NOT Sp. z o.o.
ul. Ratuszowa 11, 00-950 Warszawa, skr. poczt. 1004
Sąd Rejonowy dla m.st. Warszawy, XIII Wydział Gospodarczy, KRS: 0000069968
NIP
: 524 030 35 01
Kapitał zakładowy: 752 361,80 zł 

Na naszej witrynie wykorzystujemy pliki cookies w celu realizacji usług oraz gromadzenia informacji związanych z korzystaniem ze strony.

Plikami cookies możesz zarządzać w opcjach przeglądarki, z której korzystasz. Więcej informacji znajdziesz tutaj.